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真空氫氣爐

來源: | 發布時間:2021-10-30 |

真空氫氣爐設計原理

真空氫氣爐主要用于金屬及非金屬材料的真空氫氣還原,硬質合金、陶瓷、粉末冶金材料的真空/氣氛高溫燒結處理,軟磁材料的真空氫氣退火以及真空釬焊、真空高溫回火等工藝。設備設計溫度在1600℃以下(由客戶提供)。
VHS系列單室真空氣淬爐采用前開門裝料型式,由真空爐體、爐膽、真空系統、氫氣還原系統、快速充氣系統(氮氣)、風冷系統、溫度和真空控制系統、加熱電源、水冷系統和爐外裝料車等部分組成。
優點:本設備糅合了國際前進技術,采用負壓脈沖充氫氣和恒壓流動充氫氣燒結的新方法,達到即節約氣源又使材料充分還原提純的目的,同時又使設備具有突出的安全性能。

真空氫氣爐技術參數

最高爐溫:1600℃          爐溫均勻性:<±5℃,   極限真空度:10-1/10-4Pa可選
壓升率: 0.65Pa/h,       爐膽:石墨/鉬可選

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